正确答案: CDE

舌隆突 远中颊角区 下颌舌骨嵴

题目：患者，男，72岁，牙列缺失，全口义齿修复，无牙颌印模取选择性压力印模，减压区包括 ( )

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举一反三的答案和解析：

[单选题]在石膏模型上制作后堤区时，最宽处的宽度为

5mm

[单选题]颅骨骨缝的生长发育主要可以引起下述哪项指标的改变

颅部左右径

[单选题]口腔细菌种类复杂的主要原因是

口腔内不同部位有不同的氧化还原电势

解析：口腔内细菌种类复杂的主要原因，是由于不同部位有不同的氧化还原电势，适宜多种需氧、兼性厌氧和专性厌氧细菌的生长，而温度、pH及营养等因素是口腔内适合绝大多数微生物生长的原因，因此答案应选D。